GQQ5(A)礦用本質(zhì)**型煙霧傳感器電容式MEMS加速度計(jì)的工藝一般包括：表面工藝、體硅工藝、Liga工藝和SOI+drie工藝。對這些過程進(jìn)行了比較。表面技術(shù)是在集成電路平面技術(shù)的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的一種微技術(shù)，它只進(jìn)行單面光刻。它利用不同材料在硅平面上的順序沉積和選擇性腐蝕來形成各種微結(jié)構(gòu)。主要包括犧牲層沉積、犧牲層刻蝕、結(jié)構(gòu)層沉積、結(jié)構(gòu)層刻蝕、犧牲層去除（釋放結(jié)構(gòu)）等。將結(jié)構(gòu)材料懸浮在基板上，形成各種形狀的二維或三維結(jié)構(gòu)。

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